企业简介
天津中环领先材料技术有限公司 main business:技术开发、咨询、服务、转让（新材料、电子与信息、机电一体化的技术及产品）；半导体器件、半导体材料制造；进出口业务。（国家有专项、专营规定的、按规定执行） and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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天津中环领先材料技术有限公司的工商信息
- 120193000015124
- 91120116675957927T
- 存续（在营、开业、在册）
- 有限责任公司
- 2008年06月06日
- 沈浩平
- 20000.000000
- 2008年06月06日 至 2058年06月05日
- 天津市滨海新区市场和质量监督管理局
- 2009年03月26日
- 华苑产业区（环外）海泰东路12号内
- 技术开发、咨询、服务、转让（新材料、电子与信息、机电一体化的技术及产品）；半导体器件、半导体材料制造；进出口业务。（国家有专项、专营规定的、按规定执行）
天津中环领先材料技术有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN104690028B | 硅片腐前清洗机用清洗框 | 2017.01.25 | 本发明提供一种硅片腐前清洗机用清洗框，包括框体底板、侧板、挡板、横杆和提手，所述框体底板上设有若干方 |
| 2 | CN103668268B | 一种废酸回收再利用系统 | 2016.07.06 | 本发明创造提供一种废酸（氢氟酸、硝酸、醋酸）回收再利用系统，包括酸腐蚀机、废酸处理部分及废酸回收部分 |
| 3 | CN103659468B | 一种减少单晶硅晶圆抛光片化学灼伤的有蜡抛光方法 | 2016.06.29 | 本发明创造提供一种减少单晶硅晶圆抛光片化学灼伤的有蜡抛光方法，所述抛光方法包括清洗抛光用具、上载抛光 |
| 4 | CN104690030A | 一种改造后的硅片清洗机用槽体 | 2015.06.10 | 本发明创造提供一种改造后的硅片清洗机用槽体槽体的上沿周向有水平外沿，其特征在于：水平外沿上设置有溢流 |
| 5 | CN104701201A | 一种减少硅片表面颗粒的检验箱 | 2015.06.10 | 本发明创造提供一种减少硅片表面颗粒的检验箱，包括箱体、净化装置、支架、检验台、与检验台相配的强光灯、 |
| 6 | CN104690648A | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 | 2015.06.10 | 本发明提供一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子，包括圆盘状的刷体，所述刷体的顶面带有若干凸起或凹陷，所述刷体 |
| 7 | CN104690839A | 一种改进的硅片铲 | 2015.06.10 | 本发明提供一种改进的硅片铲，包括铲柄和铲芯，铲芯通过连接螺栓镶嵌在铲柄的一端，其特征在于：所述铲芯为 |
| 8 | CN104690028A | 硅片腐前清洗机用清洗框 | 2015.06.10 | 本发明提供一种硅片腐前清洗机用清洗框，包括框体底板、侧板、挡板、横杆和提手，所述框体底板上设有若干方 |
| 9 | CN204325551U | 一种酸腐机搬运系统 | 2015.05.13 | 本实用新型提供一种酸腐机搬运系统，包括相互啮合的大齿轮和小齿轮，所述小齿轮通过穿过其中心的主轴控制机 |
| 10 | CN204324008U | 一种多规格硅片检验盒 | 2015.05.13 | 本实用新型提供一种多规格硅片检验盒，包括盒体、盒盖、卡托和隔板，盒盖和盒体通过合页连接，盒盖上设有卡 |
| 11 | CN102983071B | 一种使用普通砂料的单晶硅晶圆片背损伤加工方法 | 2015.05.06 | 本发明涉及一种使用普通沙料的单晶硅晶圆片背损伤加工方法。其步骤是：一、配制砂浆溶液：按重量百分比取1 |
| 12 | CN104526538A | 一种新型硅片有蜡抛光方法 | 2015.04.22 | 本发明所要保护的一种新型硅片有蜡抛光方法是在原有的抛光方法的基础上进行了改进，增加了对陶瓷盘去蜡清洗 |
| 13 | CN104526493A | 一种单晶硅晶圆片边缘抛光工艺 | 2015.04.22 | 本发明创造提供一种单晶硅晶圆片边缘抛光工艺。本发明是结合化学机械抛光的过程和硅片边缘的特性得出的硅晶 |
| 14 | CN204263090U | 一种轴承拆卸工具 | 2015.04.15 | 本实用新型创造提供一种轴承拆卸工具，包括固定结构和旋转结构，固定结构包括第一柱状套筒和固定扶手，第一 |
| 15 | CN204247561U | 一种手动片盒清洗装置 | 2015.04.08 | 本实用新型创造提供一种手动片盒清洗装置，包括冲洗槽、刷洗槽、浸泡槽、FFU设备、水槽排放液系统、注水 |
| 16 | CN204247567U | 一种全自动湿法擦片机 | 2015.04.08 | 本实用新型提供一种全自动湿法擦片机，包括PLC控制系统、工作台、机械臂、转盘、滑轨、滚刷、硅片载槽和 |
| 17 | CN204230208U | 硅片表面金属离子测试装置 | 2015.03.25 | 本实用新型创造提供一种硅片表面金属离子测试装置，包括提取装置、旋转工作台和控制装置，所述提取装置包括 |
| 18 | CN204230218U | 一种卧式LPCVD石英舟 | 2015.03.25 | 本实用新型提供一种卧式LPCVD石英舟，包括卡槽、上石英面板、下石英面板、用于连接所述上石英面板和下 |
| 19 | CN204224704U | 一种酸腐机滚筒装置 | 2015.03.25 | 本实用新型创造提供一种酸腐机滚筒装置，包括硅片放置杆、支撑杆、固定杆和挡板；所述挡板上设有硅片放置杆 |
| 20 | CN204230217U | 一种新型硅片清洗筐 | 2015.03.25 | 本实用新型提供一种新型硅片清洗筐，包括筐壁板和筐底板，所述筐壁板和框底板构成筐体，还包括挡板和挂耳， |
| 21 | CN204224744U | 一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉 | 2015.03.25 | 本实用新型提供一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉，主体为腔体，还包括配气装置，腔体包括炉门、石英腔体和 |
| 22 | CN104406915A | 一种用椭偏光谱仪检测8英寸抛光片的方法 | 2015.03.11 | 本发明提供一种用椭偏光谱仪检测8英寸抛光片的方法，所述方法使用椭偏光谱仪对8英寸抛光片最重要的光学参 |
| 23 | CN104390993A | 一种检测8英寸抛光片痕量元素的检测方法 | 2015.03.04 | 本发明创造提供一种检测8英寸抛光片痕量元素的检测方法，该检测方法首先通过化学机械抛光的方法制备8英寸 |
| 24 | CN104377121A | IGBT用8英寸单晶硅晶圆片的多晶背封工艺 | 2015.02.25 | 本发明创造提供IGBT用8英寸单晶硅晶圆片的多晶背封工艺，主要包括如下工艺步骤：进舟→慢抽→快抽→吹 |
| 25 | CN104362090A | 一种CCD式光学定位硅片边缘二氧化硅的去除方法 | 2015.02.18 | 本发明创造提供一种CCD光学定位式硅片边缘二氧化硅的去除方法，采用双定位系统，选用普通中心定位系统与 |
| 26 | CN103065935B | 一种采用挤压方式去除IGBT用硅晶圆抛光片边缘氧化膜的方法 | 2015.02.04 | 本发明涉及一种采用挤压方式去除IGBT用硅晶圆抛光片边缘氧化膜的方法，将专用的挤压去边机应用于硅晶圆 |
| 27 | CN104332425A | 硅片表面金属离子测试装置 | 2015.02.04 | 本发明提供一种硅片表面金属离子测试装置，包括提取装置、旋转工作台和控制装置，所述提取装置包括真空泵、 |
| 28 | CN104332426A | 非接触式扫描抛光片表面粗糙度的检测设备和检测方法 | 2015.02.04 | 本发明提供非接触式扫描抛光片表面粗糙度的检测设备和检测方法，利用光的散射原理来对硅片的边缘和硅片表面 |
| 29 | CN104316542A | 一种用透光镜检测8英寸抛光片缺陷的方法 | 2015.01.28 | 本发明提供一种用透光镜检测8英寸抛光片缺陷的方法，所述方法使用透光镜设备检测8英寸抛光片的缺陷。本发 |
| 30 | CN102962756B | 一种可获得高抛光速率的单晶硅晶圆片抛光工艺 | 2015.01.21 | 本发明涉及一种可获得高抛光速率的单晶硅晶圆片抛光工艺。在粗抛光工艺中采用美国杜邦SR330粗抛光液， |
| 31 | CN103072073B | 一种保持硅晶圆抛光片少数载流子高寿命的抛光工艺 | 2015.01.07 | 本发明涉及一种保持硅晶圆抛光片少数载流子高寿命的抛光工艺，所述的抛光工艺包括如下次序步骤：1）将硅片 |
| 32 | CN103021842B | 一种在单晶硅晶圆上实现高速率沉积SiO<sub>2</sub>薄膜的背封工艺 | 2014.12.31 | 本发明涉及一种在单晶硅晶圆上实现高速率沉积SiO<sub>2</sub>薄膜的背封工艺，通过增大气体 |
| 33 | CN104191352A | 一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法 | 2014.12.10 | 本发明涉及一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法。使用有蜡贴片机将硅片贴在陶瓷盘上进行抛光；抛 |
| 34 | CN103029026B | 一种超高清洗能力的单晶硅晶圆片清洗方法 | 2014.11.26 | 本发明涉及一种通过无蜡抛光的方法改善晶圆硅片表面外观的加工工艺，方法的步骤：1）将需要清洗的硅片放到 |
| 35 | CN102963622B | 一种提高单晶硅晶圆抛光片保质期的包装工艺 | 2014.10.29 | 本发明涉及单晶硅晶圆片的包装工艺，尤其涉及一种提高单晶硅晶圆抛光片保质期的包装工艺。本工艺将热塑包装 |
| 36 | CN203765483U | 一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子 | 2014.08.13 | 本实用新型提供一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子，包括圆盘状的刷体，所述刷体的顶面带有若干凸起或凹陷，所述 |
| 37 | CN203610362U | 硅片腐前清洗机用清洗框 | 2014.05.28 | 本实用新型提供一种硅片腐前清洗机用清洗框，包括框体底板、侧板、挡板、横杆和提手，所述框体底板上设有若 |
| 38 | CN203588978U | 一种减少硅片表面颗粒的检验箱 | 2014.05.07 | 本实用新型提供一种减少硅片表面颗粒的检验箱，包括箱体、净化装置、支架、检验台、与检验台相配的强光灯、 |
| 39 | CN203578277U | 一种改造后的硅片清洗机用槽体 | 2014.05.07 | 本实用新型提供一种改造后的硅片清洗机用槽体槽体的上沿周向有水平外沿，其特征在于：水平外沿上设置有溢流 |
| 40 | CN203582973U | 一种废酸回收再利用系统 | 2014.05.07 | 本实用新型提供一种废酸（氢氟酸、硝酸、醋酸）回收再利用系统，包括酸腐蚀机、废酸处理部分及废酸回收部分 |
| 41 | CN203579399U | 一种用于无蜡抛光设备的配液供液装置 | 2014.05.07 | 本实用新型创造提供一种用于无蜡抛光设备的配液供液装置，是针对无蜡抛光设备粗抛过程的最后一步使用醋酸时 |
| 42 | CN203579913U | 一种改进的硅片铲 | 2014.05.07 | 本实用新型提供一种改进的硅片铲，包括铲柄和铲芯，铲芯通过连接螺栓镶嵌在铲柄的一端，其特征在于：所述铲 |
| 43 | CN102490439B | IGBT用区熔单晶硅双面抛光片的有蜡贴片工艺 | 2014.04.09 | 本发明涉及一种IGBT用区熔单晶硅双面抛光片的有蜡贴片工艺，工艺包括：a、设定供蜡量：贴蜡部的滴蜡量 |
| 44 | CN103668268A | 一种废酸回收再利用系统 | 2014.03.26 | 本发明创造提供一种废酸（氢氟酸、硝酸、醋酸）回收再利用系统，包括酸腐蚀机、废酸处理部分及废酸回收部分 |
| 45 | CN103659468A | 一种减少单晶硅晶圆抛光片化学灼伤的有蜡抛光方法 | 2014.03.26 | 本发明创造提供一种减少单晶硅晶圆抛光片化学灼伤的有蜡抛光方法，所述抛光方法包括清洗抛光用具、上载抛光 |
| 46 | CN103681298A | 一种IGBT用高产能单晶硅晶圆片加工方法 | 2014.03.26 | 本发明创造提供一种IGBT用高产能单晶硅晶圆片加工方法，具体流程为磨片→研磨→酸腐蚀→背损伤→背封→ |
| 47 | CN103646875A | 一种低成本、高产能的硅片二氧化硅边缘去除方法 | 2014.03.19 | 本发明提供一种低成本、高产能的硅片二氧化硅边缘去除方法，其工艺流程是将将经过背损伤、背封之后的硅片进 |
| 48 | CN103643303A | 一种单晶硅酸腐蚀片的加工方法 | 2014.03.19 | 本发明涉及单晶硅片表面加工工艺，特别涉及一种单晶硅酸腐蚀片的加工方法。采用HF，HNO3，CH3CO |
| 49 | CN103646851A | 一种减少单晶硅晶圆片划道的抛光工艺 | 2014.03.19 | 本发明提供一种减少单晶硅晶圆片划道的抛光工艺，包括以下步骤:1）清洁抛光机机身、外导轮、中心导轮以及 |
| 50 | CN103639889A | 一种用于无蜡抛光设备的配液供液装置及其使用方法 | 2014.03.19 | 本发明提供一种用于无蜡抛光设备的配液供液装置及其使用方法，是针对无蜡抛光设备粗抛过程的最后一步使用醋 |
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